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时间：2016-03-25 所属期刊：经济中文核心期刊
电子工业专用设备杂志社简介 《电子工业专用设备》本刊主要面对国内外从事电子专用设备研究、设计、制造及应用领域的科学工作者、工程技术人员、大专院校师生及管理干部等。其宗旨是：坚持四项基本原则、贯彻双百方针，报导国内外电子专用设备在科研、生产中
电子工业专用设备杂志社简介
《电子工业专用设备》本刊主要面对国内外从事电子专用设备研究、设计、制造及应用领域的科学工作者、工程技术人员、大专院校师生及管理干部等。其宗旨是：坚持四项基本原则、贯彻“双百”方针，报导国内外电子专用设备在科研、生产中具有先进水平的科研成果，学术动态等，为促进学术与技术交流和提高我国电子专用设备科研生产水平服务，它是我国电子专用设备行业创刊最早、且唯一全面报导各类电子专用设备的刊物，在国内外影响日益扩大，读者遍布全国。
《电子工业专用设备》(月刊)创刊于1971年，是由中国信息产业部主管,中国电子科技集团公司第四十五研究所主办, 中国电子专用设备工业协会会刊;是业内最具权威的国内外公开发行的国家级刊物。是目前国内电子专用设备领域唯一获正规出版发行的权威专业刊物，多年来为推动我国电子专用设备的发展发挥了极其重要的作用。荣获2001~2002年度标准化规范化部级奖、获2003~2004年度出版质量部级奖，中国电子科技文摘收录期刊。
电子工业专用设备杂志栏目设置
趋势与展望、专题报道、IC前沿制程、封装与测试、行业快讯、新技术应用、企业介绍
电子工业专用设备杂志荣誉
万方收录(中)
上海图书馆馆藏
国家图书馆馆藏
知网收录(中)
统计源核心期刊(中国科技论文核心期刊)
维普收录(中)
Caj-cd规范获奖期刊
电子工业专用设备杂志最新目录
化学机械抛光对硅片表面质量影响的研究 杨玉梅;云娜
(25)有机半导体材料性能研究与应用前景 周高还
(28)CMP设备承载台关键技术研究 姜家宏;王广峰;李伟;王铮
(32)CMP设备兆声清洗原理及应用 史霄;郭春华;杨师;熊朋
(36)锗抛光片清洗工艺研究 郭亚坤;陈晨;田原;范红娜;王云彪
(40)超声波清洗在电镀前处理中的应用及选型 郝鹏飞;杜斌
(43)接触式台阶测量仪常见故障的调修 韩志国;李锁印;赵革艳;赵新宇
(47)一种简易有效的去除PCBA工艺边工装 鲜飞;王鹏贺;易亚军;胡少云
(50)半导体专用设备的电气控制柜设计研究 赵立华;任晓庆;杨晓静;杨松涛
(56)中国列前沿技术全球三强有望摆脱受制于人困局
(57)2014～2020年先进封装营收预测
(57)2015年1—9月电子信息制造业运行情况
电子工业专用设备杂志论文
锗抛光片清洗工艺研究
摘 要：采用紫外线/臭氧技术氧化锗抛光片表面,取代传统的H2O2氧化工艺,之后使用盐酸稀溶液清洗.研究发现当采用波长为253.7 nm和184.9 nm的紫外线光源与臭氧同时作用,并在尽可能靠近锗抛光片表面时,经过30s的反应时间即可实现对锗抛光片的最佳氧化效果.利用雾值检测对锗抛光片表面质量进行评价,当锗抛光片经过盐酸：H2O=1：50的溶液处理60 s后,可有效地去除抛光片表面的锗氧化物.
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